辉光放电磁控溅射靶材利用率和刻蚀均匀性方法研究与进展

王永清; 沈懿璇; 万真真; 余兴; 王海舟

doi:10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.011324

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冶金分析 ›› 2021, Vol. 41 ›› Issue (8) : 54-63. DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.011324

研究报告与工作简报

辉光放电磁控溅射靶材利用率和刻蚀均匀性方法研究与进展

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Progress in methods to improve the utilization ratio and erosion uniformity of target in glow discharge magnetron sputtering

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收稿日期	出版日期
2020-10-23	2021-08-28
发布日期
2020-10-23

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