电感耦合等离子体原子发射光谱法分析复杂高温合金中痕量硅的干扰及校正方法探讨

刘晓波; 杨国武; 侯艳霞; 齐荣; 刘庆斌; 胡净宇

doi:10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010390

PDF(1117 KB)

冶金分析 ›› 2018, Vol. 38 ›› Issue (7) : 12-19. DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010390

电感耦合等离子体原子发射光谱法分析复杂高温合金中痕量硅的干扰及校正方法探讨

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Discussion on interference and correction method during the analysis of trace silicon in complex superalloy by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

文章历史 +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2018, 38(7): 12-19 https://doi.org/10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010390

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2018, 38(7): 12-19 https://doi.org/10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010390

中图分类号：

参考文献

列表( 原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序 ) 可视化分析

参考文献

基金

编委：

主编：

责任编辑：

编辑:

版权

PDF(1117 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

收稿日期	出版日期
2018-04-13	2018-07-28
发布日期
2018-04-13

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容