低温加热挥发三氯氢硅-电感耦合等离子体质谱法测定三氯氢硅中痕量砷

钱津旺; 毛智慧; 杨红燕; 张云晖; 陶明

doi:10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010310

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冶金分析 ›› 2018, Vol. 38 ›› Issue (7) : 44-50. DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010310

低温加热挥发三氯氢硅-电感耦合等离子体质谱法测定三氯氢硅中痕量砷

{{article.zuoZhe_CN}}

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Determination of trace arsenic in trichlorosilane by inductively coupled plasma mass spectrometry after trichlorosilane volatilization via low temperature heating

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2018, 38(7): 44-50 https://doi.org/10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010310

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2018, 38(7): 44-50 https://doi.org/10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010310

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收稿日期	出版日期
2018-01-20	2018-07-28
发布日期
2018-01-20

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