冶金分析
冶金分析  2018, Vol. 38 Issue (7): 44-50    DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.010310
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低温加热挥发三氯氢硅-电感耦合等离子体质谱法测定三氯氢硅中痕量砷
钱津旺1,2, 毛智慧1,2, 杨红燕1,2, 张云晖1,2, 陶明1,2
1. 云南冶金云芯硅材股份有限公司, 云南曲靖 655000;
2. 云南省光电子硅材料制备技术企业重点实验室, 云南曲靖 655000
Determination of trace arsenic in trichlorosilane by inductively coupled plasma mass spectrometry after trichlorosilane volatilization via low temperature heating
QIAN Jin-wang1,2, MAO Zhi-hui1,2, YANG Hong-yan1,2, ZHANG Yun-hui1,2, TAO Ming1,2
1. Yunnan Metallurgical Yunxin Silicon Material Co., Ltd., Qujing 655000, China;
2. Key Lab of Yunnan Province Optoelectronic Silicon Material Preparation Technology Enterprises, Qujing 655000, China

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