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| 电感耦合等离子体原子发射光谱法测定萤石中低含量二氧化硅 |
| 闻向东;赵希文;文斌;周正伦; |
| 武汉钢铁公司研究院,武汉钢铁公司研究院,武汉钢铁公司研究院,武汉钢铁公司研究院 湖北武汉430080,湖北武汉430080,湖北武汉430080,湖北武汉430080 |
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摘要 试验了电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定萤石中低含量SiO2的分析方法。试料经无水碳酸钠和硼酸的混合熔剂熔融,HCl(1+5)浸取,在电感耦合等离子体原子发射光谱仪上,用耐HF腐蚀的雾化器和矩管系统测量。考察了熔样、仪器分析条件及共存元素和基体干扰情况。根据SiO2各谱线的灵敏度、相互干扰情况及工作曲线相关系数的比较结果,选择硅的最佳分析线为212.412 nm。此方法已应用于萤石标样中低含量SiO2(质量分数0.70%~5.00%)的测定,结果与认定值或国家标准方法相符,相对标准偏差为
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| 关键词 ：
二氧化硅,
电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES),
萤石,
耐HF腐蚀的ICP雾化器和矩管系统
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出版日期: 2008-03-30
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| 基金资助:无 |
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通讯作者:
闻向东;
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