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| 关于HGA—76型石墨炉的一点改进 |
| 汪昌崙 |
| 湖南长岭炼油厂科研所 |
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摘要 HGA-76型石墨炉是美国P-E460、603等原子吸收光谱仪的重要附件。使用中多数故障是由于三端双向可控硅的毛病引起。 HGA-76型石墨炉需要在极短的时间(两秒)内升温至2700℃,程序控制器中使用三端双向可控硅2N6162来控制炉体升温,可控硅所承受的电功率很大,发热相当严重,可控硅壳体的自然散热达不到这种速度的要求,而可控硅所能承受的最大电流直接受壳体温度的影响。壳体散热速度慢、效率差,温度就升高,能够承受的最大允许电流就迅速下降。
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| 关键词 ：
石墨炉,
三端双向可控硅,
壳体,
热速度,
体升,
最大允许电流,
强制风冷,
自然散热,
效率差,
控制炉
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出版日期: 1987-08-30
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| 基金资助:无 |
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通讯作者:
汪昌崙
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